返回主站|会员中心|保存桌面|手机浏览
普通会员

北京京迈研材料科技有限公司

靶材,金属靶材,陶瓷靶材,化合物靶材,合金靶材

产品分类
  • 暂无分类
站内搜索
 
友情链接
  • 暂无链接
首页 > 供应产品 > 碳化钨靶材WC靶材磁控溅射靶材
碳化钨靶材WC靶材磁控溅射靶材
产品: 浏览次数:0碳化钨靶材WC靶材磁控溅射靶材 
品牌: 京迈研
单价: 1000.00元/片
最小起订量: 1 片
供货总量: 10 片
发货期限: 自买家付款之日起 21 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-12-04
 
详细信息
 科研实验专用碳化钨靶材WC靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       碳化钨(WC)为黑色六方晶体,有金属光泽,硬度与金刚石相近,为电、热的良好导体;熔点:2870℃,沸点:6000℃,密度:15.63 g/cm³,碳化钨不溶于水、盐酸和硫酸;纯的碳化钨易碎,若掺入少量钛、钴等金属,就能减少脆性。用作钢材切割工具的碳化钨,常加入碳化钛、碳化钽或它们的混合物,以提高抗爆能力;碳化钨粉应用于硬质合金生产材料。大量用作高速切削车刀、窑炉结构材料、喷气发动机部件、金属陶瓷材料、电阻发热元件等。
产品参数
中文名碳化钨            化学式WC
分子量195.85            沸点 6000℃
熔点 2870℃             密度 15.63g/cm3
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
       我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
       注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
       建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2
询价单
0条  相关评论